レーザ誘起背面湿式加工法による高アスペクト比加工とその応用 (特集 最新のレーザ利用研究)
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
- LIBWE法による石英ガラス表面への微細構造形成 : マイクロ化学チップの作製
- 新規透明材料LiCaAlF_6単結晶のフッ素レーザー照射耐性
- OPE2000-32 / LQE2000-26 有機溶液を用いた透明材料のレーザーアブレーション
- 有機・高分子のレーザーアブレーションの新展開
- 光反応性分子の極低温場レーザアブレーション
- UVレーザによるフッ素樹脂表面の金属薄膜微細加工
- レーザ誘起背面湿式加工法による高アスペクト比加工とその応用 (特集 最新のレーザ利用研究)
- 紫外DPSSレーザーによる金属表面のカラーマーキング
- 紫外レーザーを用いた難加工性材料の表面微細加工
- 低温マトリックス中での芳香族酸無水物のレーザー光分解反応とダイナミクス解析
- レーザー誘起背面湿式加工法による表面マイクロ・ナノ微細加工
- 色素溶液のレーザー・アブレーションを活用した石英ガラスの表面微細加工
- レーザー誘起背面湿式加工法による石英ガラスの表面微細加工
- 鉄シリサイドのレーザーアブレーション : アブレーションプルームの飛行時間質量分析および時間空間分解発光分析
- レーザアブレーションによる透明材料の微細加工 (特集 レーザアブレーション)
- OPE2000-32 / LQE2000-26 有機溶液を用いた透明材料のレーザーアブレーション
- レーザー誘起背面湿式加工法による石英ガラスの微細加工 (「液中レーザープロセッシングの最前線」特集号)
- VII-5 レーザー誘起背面湿式加工法による透明材料の加工(シンポジウムVII:レーザーアブレーションプラズマのつくる高温高圧反応場とそれによる新材料創製・加工)
- レーザー誘起背面湿式加工法による石英ガラスの微細加工
- n型(チオフェン/フェニレン)コオリゴマーAC5-CF_3を用いたマイクロディスクレーザーの作製と積層構造を用いた有機EL発光スペクトル(光機能性有機材料・デバイス,光非線形現象,一般)
- n型(チオフェン/フェニレン)コオリゴマーAC5-CF_3を用いたマイクロディスクレーザーの作製と積層構造を用いた有機EL発光スペクトル(光機能性有機材料・デバイス,光非線形現象,一般)
- 18pPSB-4 (チオフェン/フェニレン)コオリゴマー(TPCO)系有機半導体の電子状態 : DFT計算ならびにEUPS実験(18pPSB 領域5ポスターセッション(放射光・非線形光学・超高速現象),領域5(光物性))
- 28pPSA-31 (チオフェン/フェニレン)コオリゴマーの振動スペクトル(28pPSA 領域5ポスターセッション(新光源・新分光法・微粒子・ナノ結晶ほか),領域5(光物性))