次世代光通信基盤技術の展望 (特集 次世代化学技術の展望)

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著者

• 廣岡 俊彦

  東北大学電気通信研究所

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• B-10-66 光ナイキストパルスを用いた高分散耐力160Gbaud-525km伝送(B-10.光通信システムB(光通信方式,光通信機器,デバイスのシステム応用,光通信網・規格),一般セッション)
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• PMMA含有SWNTを可飽和吸収体として用いた1.07μm帯受動モード同期Ybファイバレーザ(光部品・電子デバイス実装技術・信頼性,及び一般)
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