DVScPを用いた次世代多層配線向け新規CuバリアSiC成膜プロセス技術
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概要
大陽日酸技術本部技報編集事務局 | 論文
- 高性能窒化膜プロセス向けキセノン循環型供給装置の開発
- 溶接金属中酸素量を低減するGMA溶接法の開発
- 重水を用いた原子層成長技術によるHigh-kゲート絶縁膜への重水素添加
- ブラシ状カーボンナノチューブの高速成長技術の開発
- 有機金属気相成長法によるGaN系化合物半導体成長に対するNH3ガス中の水分の影響--On-Site不純物分析技術の確立とNH3ガス精製装置の有効性