次世代感光性耐熱高分子:感光性ポリイミド・ポリベンズオキサゾールの概要と展望 (特集 高耐熱,優れた機械的特性を備えた高分子材料の技術と展開)
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
- 光学ポリマーの物性予測と高屈折率ポリイミド光学材料の開発
- 重縮合 : 最近の進展
- エレクトロニクス用感光性耐熱ポリマー(感光性フィルムの新規応用と今後の展望・一般)
- Atom Economical重縮合
- ジクロロジフェニルメタンからのエーテル合成条件の検討
- 低誘電性を有するポリエーテルエーテルケトンの合成
- 高分子合成 : 簡便な合成法の開発と新規な重合概念の創出
- 末端にフェノール成分を有するポリアミドアミンデンドリマーを用いたフォトレジストの合成
- p-イソシアナトベンジルイソシアナートと2種の対称ジオールモノマーからの定序性ポリウレタンの合成と性質
- 感光性ポリイミド・感光性ポリベンズオキサゾールの開発
- 感光性ポリイミド・感光性ポリベンズオキサゾールの開発
- 感光性ポリベンズオキサゾールの新展開
- アトムエコノミカル重縮合
- 感光性ポリイミド
- 縮合系高分子の精密重合
- 次世代感光性耐熱高分子:感光性ポリイミド・ポリベンズオキサゾールの概要と展望 (特集 高耐熱,優れた機械的特性を備えた高分子材料の技術と展開)
- マイクロリソグラフィー用フォトレジスト
- 重縮合系高分子の分子量,分子量分布の精密制御 (特集 一次構造制御技術)
- ポリチオフェン鎖を含むブロック共重合体の合成と有機薄膜太陽電池への応用