RFプラズマCVD法による極薄水素化非晶質炭素膜形成時のセルフバイアスと膜構造に関する考察

スポンサーリンク

概要

• 論文の詳細を見る
• プラズマ応用科学会の論文

著者

• 稲葉 宏

  (株)日立製作所 生産技術研究所

関連論文

• HDD高記録密度化に向けた磁気ヘッド保護膜の開発
• RFプラズマCVD法による極薄水素化非晶質炭素膜形成時のセルフバイアスと膜構造に関する考察
• ラングミューアプローブ法と発光分光法による電子サイクロトロン共鳴メタンプラズマの測定
• マグネトロンスパッタ法における電子挙動計算を用いた***ージョン解析

スポンサーリンク