急速熱処理による極薄ゲ-ト酸化膜形成 (電子デバイス特集-1-)

スポンサーリンク

概要

• 論文の詳細を見る
• 沖電気工業沖時報編集委員会の論文

著者

• 福田 永

  沖電気工業

関連論文

• 酸窒化トンネル酸化膜を用いる高信頼性フラッシュEEPROMの検討
• 酸窒化トンネル酸化膜のフラッシュメモリへの適用 (VLSI特集)
• N2O酸窒化ゲ-ト絶縁膜を用いた異極性ゲ-トCMOSFET
• 急速熱処理による極薄ゲ-ト酸化膜形成 (電子デバイス特集-1-)

スポンサーリンク