SiHCl3からのシリコン析出速度

スポンサーリンク

概要

• 論文の詳細を見る
• 日本金属学会の論文

著者

• 杉浦 正仁

  早稲田大学理工学部材料工学科

関連論文

• Siの塩化によるクロロシラン生成反応の研究
• 1000K-1300KにおけるSiCl_2(g)およびSiCl_3(g)のGibbsの標準生成自由エネルギ-変化
• SiHCl3からのシリコン析出速度
• 最近の乾式製錬の進歩と展望

スポンサーリンク