クラスタ-イオンビ-ム蒸着と結晶成長
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
- クラスタ-イオンビ-ム法による分子性薄膜の作成
- クラスタイオンビ-ム成膜技術 (「電子材料のための成膜技術」特集号)
- クラスタイオンビームエピタキシによるSi薄膜の特性 : 結晶評価
- 新しい薄膜形成技術 (光学材料を中心とした設計,および加工の問題)
- クラスタイオンビ-ム蒸着と結晶成長
- クラスタ・イオンビ-ム蒸着法 (最近のZnO膜作成技術(技術ノ-ト))
- 1)ヘリックスを主体とした進行波偏向系の一考察(III)(第31回 テレビジョン電子装置研究委員会)
- 1)ヘリックスを主体とした進行波偏向系の一考察(II)(第27回 テレビジョン電子装置研究委員会)
- 2) 進行波偏向系の偏向特性に関する一解析法(第12回 テレビジョン電子装置研究委員会)
- 1) 誘電体を装荷した進行波偏向系の解析(第12回 テレビジョン電子装置研究委員会)
- 2)進行波偏向系の一解析法(第8回テレビジョン電子装置研究委員会)
- 多元クラスタイオンビーム法によるMnBi薄膜の作成 : 結晶評価
- 光磁気記憶用Gd_3Fe_5O_単結晶薄膜の作成とその特性 : エピタキシー(LPE)
- 4V14 混合液晶の電気熱光学効果における抵抗率依存性
- 液相エピタキシャル成長で発生する疑似成長層 : エピタキシー (LPE)
- InP基板上のIn_Ga_xAs混晶の結晶性とその成長依存性 : エピタキシー (LPE)
- InP基板上のIn_Ga_xAs成長層とその厚さ方向の電気的特性
- InP基板上のIn_Ga_xAs成長層とその特性
- 3B20 液晶の電気熱光学効果とディスプレイへの応用
- 18-10 液晶の電気熱光学効果によるディスプレイ
- 18-9 液晶の電気熱光学効果
- 画像表示における材料
- 液晶による画像大形ディスプレイ
- 大学・企業間の分業と協同 (研究者教育) -- (大学と企業間の協力)
- クラスタ-イオンビ-ム技術とその応用
- 反応性クラスタイオンビーム法によるZnO薄膜のエピタキシャル成長 : エピタキシー(VPE)
- 負イオン源 (イオン応用特集)
- クラスタイオンビ-ム蒸着法によるInSbおよびGaAs薄膜の作製
- イオンビ-ム法による薄膜形成 (生体膜と高分子膜--薄層に秘める高次機能)
- イオン工学的手法による高機能薄膜形成・結晶成長に関する現況
- クラスタ-イオンビ-ム蒸着と結晶成長
- クラスタ-イオンビ-ム法による薄膜形成と結晶性におよぼすイオンの効果 (薄膜の形成と構造) -- (無機薄膜)
- クラスタ-イオンビ-ム膜 (有機薄膜--エレクトロニクスへの道)
- 可とうソレノイドコイルによる荷電ビ-ムの集束偏向特性
- 負イオン源
- クラスタイオンビーム蒸着法によるInSbおよびGaAs薄膜の作製
- クラスターイオンビーム膜