電極寸法並びに配置に起因する平板への電気メッキにおける膜厚不同の理論的考察
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
- 亜鉛-アルミニウム合金粉末による高速噴射被覆
- Al-Zn合金溶射皮膜の食塩水中における電気化学的挙動
- Zn-Al共析系超塑性合金の食塩水溶液中における腐食挙動
- 長方形異方性複合領域の電流線,等電位線
- 写像理論による3次元異方性媒質内の静電界解析
- 2次元長方形異方性領域の対辺電極間抵抗値の一性質と電流界分布
- 一般形の抵抗率テンソルをもつ2次元異方性領域解析のための写像関数
- 二次元異方性媒質内の等電位線,電流線分布(II) ; 対象面抵抗率テンソルおよび反対称テンソルを持つ長方形領域について
- 平行四辺形しゃへい導体を持つ結合ストリップ線路の静電容量
- 二次元異方性媒質内の等電位線,電束線分布(I)
- 異方性媒質を用いたしゃへい形結合ストリップ線路の偶奇モ-ド位相速度の一致法
- 二次元異方性媒質内の等電位線,電束線分布-1-
- 二次元対称領域における特定な点の電位について
- 長方形異方性領域の対辺電極間の正確な抵抗値
- 異方性領域としてみたホール領域について
- 正方形異方性複合領域の対辺電極間の抵抗値上下界;有限要素法を用いた計算
- 平行四辺形抵抗領域の対辺二電極間の抵抗値
- 対称性を有する二次元複合領域のある種のポテンシャル問題
- 二次元対称領域における周辺二電極間の特殊な抵抗値
- ハルセルに代る新しいセルの提案
- ハルセル(Hull Cell)の電流分布に対する一考察
- 電極寸法並びに配置に起因する平板への電気メッキにおける膜厚不同の理論的考察
- 距離係数の概念を導入した二次元異方性媒質の等方化写像
- 反対称性を有する二次元異方性複合領域の抵抗値
- 二本の鏡映対称軸を有する領域の抵抗値に関する特殊な性質
- 鏡映反対称性を有する二次元複合領域の電極上の電流密度
- p4m対称性切込みを持つ平面抵抗
- 領域間の演算に基づく二次元複合抵抗領域の性質
- 二本の鏡映対称軸および二本の鏡映反対称軸を有する複合領域の抵抗値
- 塗膜の密着度低下とイオン透過
- 板状電荷重畳法による外円筒同軸系の電位分布および静電容量計算
- 最近の溶射技術 (ハイテク時代の溶射技術)
- アルミニウムおよびアルミニウム合金の溶射
- 溶射の歴史
- プラスチックライニングと塗装
- 粉体塗装の帯電量減衰に影響する諸因子
- イオンエッチング並びにア-ク放電による亜鉛-アルミニウム合金表面の組成変化
- 超塑性亜鉛-アルミニウム共析合金への無電解ニッケルめっき
- Zn-Al合金への無電解ニッケルめっき
- 塩化ビニル塗膜の塩素イオン透過率に及ぼす膜厚と温度の影響-2-
- 塩化ビニル塗膜の塩素イオン透過率に及ぼす膜厚と温度の影響
- 含水酸化鉄の電解還元容量に及ぼす試料焼成及び添加金属陽イオンの影響
- 振動場内の粉体の挙動
- メタクリル酸メチルモノマーの重合による金属酸化物とポリマーの複合粉体の作成とその性質
- 最近の粉体塗装
- 金属溶射の現状と問題点
- 低密度ポリエチレンの電気伝導に与える一軸延伸の影響
- 最近の溶射法とその応用
- CdS蒸着膜の光電的性質
- 金属蒸着膜の酸化と電気抵抗の変化
- CdS沈澱の結晶構造と光電導
- 酢酸カドミウム水溶液から作製したCdS沈殿の結晶構造と光電導
- CdS粉末の粉砕に伴う光伝導性の変化 : CdS粉末の表面状態の変化
- 高分子で被覆したフリット粉末の作成とそのコロナ帯電特性(粉体小特集)
- CdS粉末の粉砕に伴う光電導性の変化
- 電荷分布のある二次元異方性媒質の等方化写像
- 二次元回転対称抵抗領域における抵抗値を与える母数の種々の電極配置相互間の関係
- 等径円環電極間の最小抵抗曲面
- Curved surface of minimum resistance between coaxial ring electrodes
- セラミック溶射膜のソ-ラ-エネルギ-転換特性
- 交代テンソルを含む二次元異方性媒質の等方化写像
- 各種曲面の電流場とその定抵抗回路網への応用
- 二次元異方性複合領域の等方化写像理論
- RuO2-SiO2スパッタ膜の電気的性質
- ZnS粉末EL素子
- ガラス-ポリエチレン分散系の誘電率
- スパッタリング法によって作成したTiO2膜の電気的性質
- 化学装置の有機質・無機質ライニング技術(化学機械・装置小特集号)
- 三角結線されたインピ-ダンス不同の変圧器電流図式解法
- 塩化ビニル塗膜の塩素イオン透過率に及ぼす膜厚と温度の影響-その2
- 塩化ビニル塗膜の塩素イオン透過率に及ぼす膜厚と温度の影響