CMOS集積化のためのSiO<SUB>2</SUB>被覆ポリシリコン可動構造体を有するマイクロミラー

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概要

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• We propose a CMOS-compatible and mechanically reliable MEMS fabrication process for integrated micromirror. In this paper, design and evaluations of the micromirror fabricated by the proposed process is described. Residual stress deformation of electrodes and buckling of torsion beams were suppressed by rib structures and appropriate layout of support anchors. Highly stable characteristics of the micromirror were demonstrated by evaluation at temperatures from 30 to 150°C.

著者

• 野々村 裕

  （株）豊田中央研究所 パワーエレクトロニクス研究部

• 藤塚 徳夫

  （株）豊田中央研究所

• 尾﨑 貴志

  （株）豊田中央研究所

• 各務 学

  （株）豊田中央研究所

• 尾﨑 貴志

  （株）豊田中央研究所

• 島岡 敬一

  （株）豊田中央研究所

• 野々村 裕

  （株）豊田中央研究所

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