Chemical vapor deposition of Al2O3 layer on aluminum anodic oxide films.
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概要
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Thermal decomposition of aluminum triisopropoxide resulted in chemical vapor deposition of a thin layer of alumina on the microporous structure of aluminum anodic oxide films. Properties of the deposition were analyzed with a scanning electron microscope and the mechanism of the deposition of the alumina film on the porous structure was discussed.
- 一般社団法人 表面技術協会の論文
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