アスコルビン酸を還元剤とする無電解金めっき浴の電気化学的挙動
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
A novel electroless (autocatalytic) gold plating bath containing sodium L-ascorbate as the reducing agent has been developed. A suitable bath composition was formulated based on the results of an electrochemical study in which were determined at a gold electrode the anodic polarization curves of various reducing agents and the cathodic polarization curves of sodium tetrachloroaurate (III) dissolved in solutions of sodium sulfite and/or sodium thiosulfate.A typical bath containing 0.0125mol/dm3 sodium tetrachloroaurate (III), 0.1mol/dm3 sodium sulfite, 0.1 mol/dm3 sodium thiosulfate, and 0.25mol/dm3 sodium L-ascorbate, was operated under moderate conditions, typically at a pH of 6.0 and 333K. The rate of gold deposition obtained with this bath was in the same range or greater than that obtained with the classical cyanide-borohydride bath. The deposition rate of the new bath depended on both the ascorbate and gold concentrations, and the gravimetrically determined deposition rate was found to correspond well with the rate estimated from electrochemical polarization measurements.
- 社団法人 表面技術協会の論文
著者
関連論文
- ニッケル-ポリマーの複合電析
- 酸性浴からの電析コバルトの優先配向
- 次亜リン酸およびジメチルアミンボランを還元剤とする鉄-ニッケル合金の無電解析出
- Ni-ポリマー複合電着法による多孔質電極の作成
- LiCl-KCl-TiCl_3溶融塩からのチタニウムの平滑電析
- 金属Ti共存下におけるLiCl-KCl共晶塩中のTi^/Ti^平衡
- Fe-Ni合金めっきしたCu細線におけるMI効果の電析層厚依存性
- Cu細線上に無電解FeNiPめっきしたMI素子
- 無電解Co-BおよびCo-Fe-B析出への非晶質合金基板組成の影響
- 非晶質薄帯上への無電解Co-Fe合金の析出電気化学的特性
- 液体急冷非晶質薄帯上に析出した無電解CoFe系合金めっき膜の析出挙動と性状
- NiSiB非晶質薄帯基板を用いた無電解CoFeBめっき膜の形成と熱処理効果
- 無電解めっき膜/非晶質薄帯2層材の形成と垂直磁気異方性の誘導
- Fe基液体急冷非晶質合金薄帯上への無電解CoP合金めっき膜の形成
- 多孔質シリコン細孔中に析出した無電解Co系めっき合金の形状および磁気特性
- 多孔質シリコンを基板とした無電解Co系合金めっき膜の形状および磁気特性
- 表面技術における志向性
- アスコルビン酸を還元剤とする無電解金めっき浴の電気化学的挙動
- ニッケルめっきにおける塩化物イオンの役割
- "めっき"で創る化合物半導体
- "表協誌"のあゆみ
- 国際会議の紹介 : SURTEC(表面処理)
- アルカリ溶液中におけるガリウム-ヒ素合金電着
- Ni-Fe-P非晶質合金めっきとその性状 (非晶質めっきの作製法とその応用)
- アルカリ溶液中におけるガリウムの電析
- ヒ素の電着とヒ素電着膜の電気化学的挙動