反応性イオンエッチングによる光磁気ディスク基板
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
Guide tracks of 1.6μm pitch, 0.70.8μm width and 0.07μm depth were prepared on a glass disk by reactive ion etching technique. Etching rate became high and a smooth etched surface was obtained according to the decrease of CHF<SUB>3</SUB> gas pressure and the increase of a self bias voltage induced to a cathode. It was found that the pregrooved glass substrate prepared under the CHF<SUB>3</SUB> pressure of 0.3 Pa and the self bias voltage of -500V had sufficient performance required for magneto-optical memory application.
- 日本真空協会の論文
著者
-
高橋 明
シャープ株式会社
-
太田 賢司
シャープ株式会社、基盤技術研究所
-
太田 賢司
シャープ(株)精密技術研究所
-
広兼 順司
シャープ株式会社
-
出口 敏久
シャープ株式会社中央研究所
-
乾 哲也
シャープ株式会社中央研究所
-
岡本 高明
シャープ株式会社中央研究所
-
高橋 明
シャープ株式会社中央研究所
-
広兼 順司
シャープ株式会社中央研究所
関連論文
- 静磁結合型CAD媒体における磁化状態の遷移
- 静磁結合型CAD媒体における磁化状態の遷移
- 静磁結合型CAD媒体における磁化状態の遷移
- As-MO MSRディスクにおけるランド・グルーブ記録再生特性
- 大容量光磁気AS-MO(6GB/120mm Disk)の要素技術
- 面内磁化マスク層による超解像光磁気記録媒体の再生分解能向上
- 面内磁化マスク層を用いた磁気的超解像光磁気ディスク
- 磁気的超解像光変調オーバーライト媒体 (磁気光学・光磁気記録)
- 静磁結合型超解像光磁気記録媒体の記録再生特性
- 7 Gbit/in^2を超えるCAD-MSRタイプ光磁気ディスク
- 大容量光磁気ディスク(6GB/120mm径)の要素技術
- AS-MOの技術 (特集 群雄割拠,最先端技術に湧く--デ-タストレ-ジ操縦法(1)) -- (光記録最前線)
- PRMLにおけるエラーレート最小化適応等化技術
- PRMLにおけるエラーレート最小化適応等化技術(画像記録装置及び一般)
- GaFe薄膜のTcと磁気モーメント
- 静磁結合型光磁気ディスクにおける低磁界記録
- 磁気的超解像光変調オーバーライド体
- 静磁結合型磁気的超解像媒体
- 面内磁化マスクを用いた干渉構造超解像光磁気ディスク
- 再生層における磁区安定性を利用した超解像光磁気ディスク
- 光アシスト型磁気記録再生技術
- 光アシストによる磁気記録技術(光記録及び一般)
- 光アシストによる磁気記録技術
- 光アシストによる磁気記録技術
- 光アシストによる磁気記録技術
- 光アシスト磁気再生におけるクロストークキャンセル
- ドライエッチング法を用いた光ディスク基盤 (機能性ガラス)
- 光磁気ディスクメモリ
- 光磁気ディスクメモリ-の光学系 (光ディスク特集) -- (第15回微小光学研究会プロシ-ディングスより)
- 光磁気記録・再生のための多層膜構造の開発
- 密着露光法による光磁気ディスク
- 反射膜構造によるRE-Fe系膜の光磁気記録
- 静磁結合型CAD媒体における磁化状態の遷移
- 反応性イオンエッチングによる光磁気ディスク基板