半導体触媒粒子の通気懸濁系における耐熱性細菌胞子の光殺菌とその速度論的解析
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概要
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For the photochemical sterilization of thermoduric bacterial spores (<I>Bacillus stearothermophilus</I>), light-irradiation experiments were conducted with a square bubble-column photoreactor (4cm in width×4cm in depth×25cm in height) containing slurried TiO<SUB>2</SUB> semiconductor particles (mean diameter : 21nm). Under the operational condition that TiO<SUB>2</SUB> particles and dissolved oxygen coexisted in reaction mixture, the spores were effectively sterilized. In the present study, a maximal rate of spore sterilization was obtained under conditions of average light intensity in the reactor of 6. 0×10<SUP>5</SUP>J·m<SUP>-3</SUP>, TiO<SUB>2</SUB> concentration of 5×10<SUP>-2</SUP>kg·m<SUP>-3</SUP> and dissolved oxygen concentration of 7.7×10<SUP>-3</SUP>kg·m<SUP>-3</SUP>.<BR>Considering that oxidative radicals formed from dissolved oxygen <I>via</I> TiO<SUB>2</SUB> photocatalysis cause the spores' death, the knetics of spore sterilization was analyzed on the basis of a second-order rate equation with respect to spore and oxidative radical concentrations, and a single-hit multitarget model. As a result, the elapse of spore sterilization could be expressed successfully and linear correlation was observed between determined rate constants of spore sterilization and average light intensity in the reactor.
- 社団法人 化学工学会の論文
著者
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堀江 靖彦
大阪大学基礎工学部 化学工学科
-
朱 鉱圭
大韓民国建国大学校農科大学 農化学科
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東稔 節治
大阪大学基礎工学部
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田谷 正仁
大阪大学基礎工学部 化学工学科
-
加藤 進
大阪大学基礎工学部 化学工学科
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足利 善啓
大阪大学基礎工学部 化学工学科
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