硫化水素を含むCVD雰囲気を用いてのWC-β<SUB>t</SUB>-Co超硬合金上へのAl<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>被覆
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概要
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The characteristics such as growth rate, microstructure and quality of Al<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB> film coated on WC-β<SUB>t</SUB>-Co cemented carbide (having TiC and TiN thin films) were investigated as a function of H<SUB>2</SUB>S content in CVD atmosphere. It was found that the growth rate of Al<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB> film sharply increased; the columnar structure of the film was promoted; the sulphur content in Al<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB> film increased; the difference in film thickness between edge and flat of specimen decreased with increasing H<SUB>2</SUB>S content. It was noticed that the strength of Al<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB> film and adhesive strength between Al<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB> and TiN-TiC films would lower by using H2S contained atmosphere.
- 社団法人 粉体粉末冶金協会の論文
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