PMMAの窒素イオンビームエッチングにおける窒素ガス圧の影響
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概要
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The influence of N2 gas pressure on a Nitrogen ion beam etching of a polymethylmethacrylate(PMMA) was investigated in detail in order to discuss the dry etching mechanism of polymer. From these experimental results, it was found that N2 gas pressure was a critical parameter for polymer dry etching.
- 社団法人 電気学会の論文
- 2003-02-01
著者
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