ギ酸脱水素酵素と亜鉛ポルフィリンを用いた可視光による炭酸水素イオンからのギ酸合成反応
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概要
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ギ酸脱水素酵素による炭酸水素イオンのギ酸への変換反応と水溶性亜鉛ポルフィリンの光増感作用によるメチルビオローゲンの光還元反応とを組み合わせた可視光によるギ酸合成系を構築した。具体的には電子供与体であるトリエタノールアミン，亜鉛テトラキス（4-メチルピリジル）ポルフィリン，メチルビオローゲンおよびギ酸脱水素酵素からなる系である。この反応系に炭酸水素ナトリウムを添加し，200 Wタングステンランプを用い可視光を照射すると光照射時間とともに定常的にギ酸が生成した。また，ギ酸の生成とともに炭酸水素イオンの減少が観測された。ギ酸脱水素酵素の最適活性量は20 unitsであり，このとき光照射4時間後のギ酸生成量は50 μmol·dm−3であった。以上のことからギ酸脱水素酵素と亜鉛ポルフィリンを用いた可視光による炭酸水素イオンからのギ酸合成反応系の構築に成功した。
- 社団法人石油学会の論文
- 2004-01-01
著者
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