スパッタリング法によるPt抵抗薄膜の作成
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
Pt is a valuable material for thermal sensors, because of its excellent thermal stability and linearity of resistance-temperature. This paper describes the electrical properties of Pt thin films prepared by th sputtering method. The experimental results are summarized as follows. The thickness of Pt thin films is about 500 〓~1000〓 depending on the strength of the ionic current. Their resistance-temperature chracteristic shows a remarkable hysteresis phenomenon. Their crystallization depends on the temperature of heat treatment.
- 長野工業高等專門学校の論文
著者
関連論文
- 電子化の時代を迎えた高専図書館:長野高専における図書館情報化システムの導入とその利用について
- 積層形パラメトリック磁気センサの特性
- 結晶性炭素薄膜の生成とその諸特性評価
- 入力インピーダンス調整用スタブを用いたF級電力増幅器用高調波制御フィルタ
- 磁気増幅器における跳躍および遅延現象について-2-
- 磁気増幅器における跳躍および遅延現象について-1-
- パラメトリック磁気センサの高周波・高感度化に対する一考察
- パラメトリック磁気再生ヘッドの等価回路の算出方法
- F級電力増幅器用高調波制御フィルタの特性
- スパッタリング法によるPt抵抗薄膜の作成
- PbTe薄膜の作成と温度特性
- プラズマCVDによるカ-ボン膜の生成
- プラズマCVDによる高導電性カーボン膜の生成
- 公開講座「中学生のための電子工作教室」の実践報告 : 中学生への果たす役割
- パラメトリック磁気再生ヘッドの等価回路の算出方法
- 磁気増幅器における跳躍および遅延現象について-2-
- 磁気増幅器における跳躍および遅延現象について-1-
- PbTe薄膜の作成と温度特性
- スパッタリング法によるPt抵抗薄膜の作成
- プラズマCVDによるカ-ボン膜の生成