a-C:H薄膜のプラズマ処理による構造変化

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概要

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• This paper is desaibed about structural changes of hydrogenated amorphous carbon films (a-C:H) exposed by inductively coupled hydrogen plasma The a-C:H films were prepared by magnetron sputtering using VHF plasma. Structure and optical gap of the plasma exposed films were investigated by infrared (IR) absorption and UV/Visual (VIS) absorption. From IR measurements, it is found that hydrogen concentration in the films decreased with increasing exposed time. The number of sp^3-CH_3 and sp^2-CH bonds in the films decreased as compared with sp^3-CH, sp^3-CH_2 in the films by hydrogen plasma treatment. The optical gap decreased with the bonding hydrogen concentration.

• 琉球大学工学部の論文

著者

• 比嘉 晃

  琉球大工

• 比嘉 晃

  琉球大学・工学部

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