UVレーザ直接描画による光配線板用交差光導波路の損失特性(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
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概要
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本報告ではナノハイブリッドシリコーンを用いた光配線板用ポリマーマルチモード交差光導波路の作製及びその評価について述べている。作製にはレーザ直接描画法を採用し,光配線板用ポリマーマルチモード交差光導波路及び多重交差光導波路を作製し,損失物性クロストークについて検討した。
- 2011-08-18
著者
-
須田 俊央
フォトニックサイエンステクノロジ株式会社
-
小林 壮一
千歳科学技術大学
-
小林 壮一
千歳科学技術大学:フォトニッタサイエンステクノロジ株式会社
-
隠岐 正義
千歳科学技術大学
-
石倉 隆広
千歳科学技術大学
-
加藤 圭亮
千歳科学技術大学
-
須田 俊央
フォトニック サイエンス テクノロジ(株)
-
小林 壮一
株式会社千歳科学技術大学
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