紫外線レーザ直接描画による感光性ポリマー光導波路の損失特性(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
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概要
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本報告ではナノハイブリッドシリコーンを用いた光配線板用ポリマーマルチモード光導波路の作製及びその評価について述べている。作製にはフォトマスク法とレーザ直接描画法を採用し,各々の直線光導波路を850nmの各種光源を用いて評価した。また材料の透過スペクトルを測定し,直線光導波路との比較を行った。レーザ直接描画法を用いて光配線板用の交差光導波路を作製し,損失特性,クロストークについて検討した。
- 2010-08-19
著者
-
小林 壮一
千歳科学技術大学総合光科学部
-
須田 俊央
フォトニックサイエンステクノロジ株式会社
-
小林 壮一
千歳科学技術大学
-
隠岐 正義
千歳科学技術大学
-
藤澤 篤
千歳科学技術大学
-
隠岐 正義
千歳科学技術大学総合光科学部光システム学科
-
須田 俊央
フォトニック サイエンス テクノロジ(株)
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