26aPS-20 界面歪みによるFeRh薄膜の磁気特性への影響(26aPS 領域3ポスターセッション,領域3(磁性,磁気共鳴))
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概要
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- 社団法人日本物理学会の論文
- 2011-03-03
著者
-
伊藤 満
東工大応セラ研
-
谷山 智康
東工大応セラ研
-
伊藤 満
東京工業大学応用セラミックス研究所
-
伊藤 満
東工大工材研
-
鈴木 一平
東工大応セラ研
-
内藤 朋之
東工大応セラ研
-
谷山 智康
東工大応セラ研:jstさきがけ
-
Itoh M
Materials And Structures Laboratory Tokyo Institute Of Technology
-
Ishizuka M
Research Center For Materials Science At Extreme Conditions Osaka University
-
Itoh M
Department Of Electrical And Electronic Engineering Faculty Of Engineering Shinshu University
-
Itoh M
Institute Of Livestock Industry's Environmental Technology Livestock Industry's Environmen
-
Itoh Minoru
Department Of Electrical And Electronic Engineering Shishu University
-
Itoh Minobu
Department Of Applied Science Faculty Of Engineering Shinshu
-
Itoh Minoru
Department of Physics, Kyoto University
-
伊藤 満
東工大応セラ
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