2.マイクロ波表面波プラズマを用いたシリコン酸化窒化(<小特集>実用化プロセスにおけるプラズマ源の革新〜平行平板プラズマ源から新プラズマ源へ〜)
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概要
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マイクロ波表面波プラズマを用いることにより, 従来の平行平板プラズマでは実現できなかった低電子温度で高電子密度のプラズマを生成し, 低温でダメージを与えないプロセスが実現可能となった.この技術を用いて, 従来熱プロセスで行われていたゲート形成プロセスおよびその周辺プロセスの低温化が実現している.
- 2011-01-25