116 数値解析によるUltra low-k眉間絶縁膜を採用したCu配線のストレスマイグレーション寿命予測(学生賞III)

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概要

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• 2009-03-13

著者

• 根本 剛直

  東京エレクトロン技術研究所(株)

• 中島 将太

  東北大院

• 横堀 嘉光

  東北大工

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