21aGC-5 単原子層交互積層法によるL1_0型FeNi合金薄膜の人工合成(21aGC 微小領域磁性(薄膜,人工格子,ナノ粒子),領域3(磁性,磁気共鳴))
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概要
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- 社団法人日本物理学会の論文
- 2010-03-01
著者
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高梨 弘毅
東北大金研
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高梨 弘毅
東北大学金属材料研究所
-
水口 将輝
東北大学
-
水口 将輝
東北大金研
-
水口 将輝
ナノ機能合成プロ産総研
-
小嶋 隆幸
東北大金研
-
水口 将輝
東北大学金属材料研究所
-
Takanashi K
Institute For Solid State Physics University Of Tokyo:the Research Institute For Iron Steel And Othe
-
Takanashi K
Institute For Materials Research Tohoku University
-
小嶋 隆幸
東北大学大学院
-
高梨 弘毅
東北大学
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