流動場における高分子結晶化過程(<特集>ソフトマテリアルと核形成)
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概要
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流動場における高分子の結晶化過程について、放射光X線、中性子、偏光解消レーザー光散乱、光学顕微鏡により、サブナノメートルから数十マイクロメートルの広い距離スケールにおける構造形成について調べた。伸張鎖結晶であるシシ構造と折り畳みラメラ晶であるケバブ構造からなるシシケバブの形成には、臨界のせん断速度が存在すること、高分子量成分がシシ生成を支配していることが明らかになった。さらにはシシケバブ生成に先立ちマイクロメートルスケールのシシ前駆体が生成することが示唆された。
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