半無限周期表面からのTE平面波の散乱と回折(フォトニックNWシステム・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,及び一般)
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概要
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この報告では、TE平面波入射に対する半無限周期表面からの散乱と回折を議論している。ウィーナ・ホッフ法と摂動法の併用により、具体的な波動場の表現を二種類のフーリエ積分の和の形で求めている。周期表面のラフネスの効果は主に照射側に現れ、影側では弱く現れる。更には影側において一次散乱の角度分布上にリップルが現れることを新たに見出している。このリップルは二つのエッジ回折波(エッジから放射される円筒波と周期表面から支持される非一様平面波)の干渉現象である。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2009-01-22
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