二次元ランダム薄膜によるTE平面波の反射と透過 : 非等方ゆらぎ(フォトニックNWシステム・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,及び一般)
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概要
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この報告では、確率汎関数法を用いて統計的に非等方なゆらぎを持つ薄膜からのTE平面波の反射と透過を議論している。以前の論文[IEICE Trans. Electron., Vol. E92-C, 2009]で示されたTE平面波入射に対する二次元的な誘電率のゆらぎを持つ薄膜によるランダム波動場のウィーナ・伊藤展開表現から始める。非等方なスペクトル密度をもつゆらぎについて多重繰り込みマスオペレータを求める計算アルゴリズムの提案している。多重繰り込みマスオペレータ、1次インコヒーレント散乱断面積お光学定理を数値計算し統計的性質とゆらぎの非等方性の影響を議論している。
- 2009-01-22
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