2. 磁場中RFプラズマCVDによるカーボンナノチューブ配向成長(<小特集>プラズマプロセスによるカーボンナノチューブ配向成長の現状と課題)
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概要
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The plasma-enhanced chemical vapor deposition method, which has such benefits as low synthesis temperature and vertical alignment control, was successfully applied to the single-walled carbon nanotube (SWNT) formation stage. By means of plasma sheath effects, the individual SWNT with a freestanding form was grown on a silicon-based flat substrate surface. The detailed plasma effects are also discussed in order to achieve more precise control of the growth of the carbon nanotube.
- 社団法人プラズマ・核融合学会の論文
- 2005-09-25
著者
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