3. フルオロカーボンプラズマのモニタリング(<小特集>材料プロセス用フルオロカーボンプラズマ-現状と展望-)
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概要
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絶縁膜加工に用いられる各種モニタリング装置の概要とその将来的な応用の方向性について整理した.電子,イオン,ラジカル等の各種プラズマ粒子の量とエネルギーの定量的な把握は,より精密な制御が求められる次世代の半導体向けのプロセス構築を進める上で非常に重要となってくる.モニタリング設備の開発の方向性は2つあり,一つは原子レベルでのメカニズム検討をめざした定量性の向上,もう一つは量産設備での僅かな変動を検知するための小型化,簡易化を含む搭載性の向上である.将来的にはきちんとした反応モデルに基づき,モニタリングデータ・統計的手法・計算技術を複合したプラズマのリアルタイム制御技術が求められる.
- 2007-04-25