複合ターゲットを使用して形成させた窒化チタン皮膜の特性について
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概要
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TiN has high melting point and high hardness, excellent in oxidation resistance and corrosion resistance.TiN can be formed by the diffusion infiltration method and the PVD method, etc. We manufactured TiN by the PVD method. However, the PVD method influences a TiN film by N_2 gas flow. Here, the PVD method using the compound target which TiN can be made to form without using N_2 gas is described.
- 近畿大学工業高等専門学校の論文
- 2004-12-01
著者
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