シリコン(001)微斜面でのステップのパターン形成(<小特集2>結晶成長の基礎-多様な展開)
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概要
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シリコン結晶に直流電流を流して加熱すると,等間隔な直線ステップ列からなる微斜面が不安定になり,ステップの束形成(バンチング)や蛇行と呼ばれる不安定化が起きる.これらの不安定化の原因は,直流電流により引き起こされる吸着原子の流れと考えられている.ここでは,拡散の異方性が90度づつ異なるテラスが交互に現れるシリコン(001)微斜面を念頭に置き,吸着原子の流れにより生じるステップの不安定化について理論的に調べた結果を報告する.
- 日本結晶成長学会の論文
- 2006-03-31
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