PB14 液晶基を有する新規ビナフチル誘導体の合成と性質(トピカルセッション-液晶物性計測の最前線-, 2005年日本液晶学会討論会)
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
- 30p-QA-3 ドープしたポリアセチレンの物性
- 1B519 ポリアセチレン合成用スメクチック液晶溶媒の探索
- 1B18 含フッ素キラル液晶基を有するポリフェニレン誘導体の合成(化学・材料)
- 2C13 液晶性を有するポリチエニレン及びポリチエニレンビニレン誘導体の磁場配向化による電気的・光学的異方性の発現
- 2C12 液晶性芳香族共役系高分子の磁場配向化とその光学的異方性
- 2C04 キラルな液晶基を側鎖にもつ新規ポリチエニレン誘導体の合成と性質
- 2C03 側鎖型含フッ素強誘電液晶性ポリチオフェン誘導体の合成と性質
- PBa11 光学活性な液晶基を有するポリアセチレン誘導体とその強誘電性
- 1B10 液晶性を有するスモールバンドギャップ型導電性高分子
- 1B09 不斉中心にフッ素を有する強誘電液晶性ポリアセチレン誘導体の合成とその性質
- 2D17 強誘電液晶性一置換ポリアセチレンの合成と性質
- 3C17 強誘電性液晶及び強誘電性液晶-導電性高分子液晶複合体の光学的性質と電気光学効果
- 5p-S-3 ポリアセチレン系導電性高分子液晶の電子・光物性
- 1AC08 液晶性を有する導電性ポリチエニレンの合成と性質
- 不斉液晶反応場での重合とその展開
- 2B06 液晶溶媒からなるアセチレン重合のための垂直反応場の構築
- 導電性高分子液晶及びその強誘電性液晶との複合体の電気的光学的性質
- 不斉液晶反応場でのヘリカル共役ポリマーの合成とらせん構造形成メカニズムの解明
- 3B13 ねじれの大きい垂直配向ヘリカルポリアセチレンの合成とモルフォロジー(トピカルセッション-液晶物性計測の最前線-, 2005年日本液晶学会討論会)
- 1A17 キラルネマティック液晶場でのヘリカルポリアセチレンの形成メカニズム(物理・物性)
- 共役系高分子の次世代光材料への期待--共重合型ポリ(エチレンジオキシチオフェン)誘導体の合成と光学的性質 (特集 未来社会を支える化学技術)
- 3B11 らせん状共役系高分子からなる自己組織性集合体(トピカルセッション-液晶物性計測の最前線-, 2005年日本液晶学会討論会)
- 1B12 光応答性キラルネマチック液晶の調製とキラル反転(トピカルセッション-液晶材料の新しい機能開発-, 2005年日本液晶学会討論会)
- 1B16 ヘリカルポリアセチレンのモルフォロジーとキラルネマチック液晶の配向との関係(化学・材料)
- 3PA01 軸性キラリティーを有する液晶分子の合成と性質
- 2B08 磁場配向したキラルネマチック液晶下での配向ヘリカルポリアセチレンの合成(化学・材料)
- キラル液晶場での共役ポリマーの合成と超階層構造制御および機能化
- PB14 液晶基を有する新規ビナフチル誘導体の合成と性質(トピカルセッション-液晶物性計測の最前線-, 2005年日本液晶学会討論会)
- コポリマー型キラルPEDOT誘導体の合成と、電気化学的酸化・還元によるエレクトロクロミズムとキラリティーの制御
- ヘリカルグラファイト