26pXC-9 化学吸着と物理吸着におけるステップと吸着子の相互作用の違い : 密度行列くりこみ群計算と複素経路重み(IPW)法計算(表面・界面構造(シリコン表面),領域9(表面・界面, 結晶成長))
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概要
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- 社団法人日本物理学会の論文
- 2005-03-04
著者
-
阿久津 典子
大阪電通大工
-
山本 隆夫
群馬大工
-
山本 隆夫
群馬大学工学部共通講座
-
阿久津 泰弘
阪大院理
-
阿久津 泰弘
阪大大学院理
-
阿久津 典子
大阪電通大大学院総合電子工学専攻
-
阿久津 典子
大阪電通大
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