A New Field Isolation Technology for High density MOS LSI : A-5: DEVICE TECHNOLOGY (2)

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概要

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• 社団法人応用物理学会の論文
• 1979-03-01

著者

• Kohyama Susumu

  Toshiba Research And Development Center

• Iizuka Hisakazu

  Toshiba Research And Development Center

• Shibata Tadashi

  Toshiba Research And Development Center

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