Electrical Activation and Deep Diffusion of Ion-Implanted Al and Ga in Si : A-5: PROCESS TECHNOLOGY

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概要

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• 社団法人応用物理学会の論文
• 1983-02-28

著者

• YAGI K.

  Central Research Laboratory, Hitachi Ltd.

• TAMURA M.

  Central Research Laboratory, Hitachi Ltd.

• Natsuaki N.

  Central Research Laboratory

• OHYU K.

  Central Research Laboratory

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