XeF Excimer-Laser Activation of Ion-Implanted Dopants in Hydrogenated Amorphous-Silicon Films

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概要

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• 社団法人応用物理学会の論文
• 1995-04-15

著者

• Kim Chang-dong

  Faculty Of Engineering Tokyo Institute Of Technology

• Matsumura Masakiyo

  Faculty Of Engineering Tokyo Institute Of Technology

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