Multi-Beam Concepts for Nanometer Devices : Lithography Technology
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概要
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- 社団法人応用物理学会の論文
- 1989-12-30
著者
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Schaffer P.
Institut Fur Angewandte Physik Universitat Tubingen
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LISCHKE B.
Siemens AG, Forschung fur Materialwissenschaften und Elektronik
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BENNECKE W.
Institut fur Mikrostrukturtechnik der FhG
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BRUNNER M.
Siemens AG, Forschung fur Materialwissenschaften und Elektronik
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HERRMANN K.H.
Institut fur Angewandte Physik, Universitat Tubingen
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HEUBERGER A.
Institut fur Mikrostrukturtechnik der FhG
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KNAPEK E.
Siemens AG, Forschung fur Materialwissenschaften und Elektronik
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SCHNAKENBERG U.
Institut fur Mikrostrukturtechnik der FhG
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Knapek E.
Siemens Ag Forschung Fur Materialwissenschaften Und Elektronik
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Lischke B.
Siemens Ag Forschung Fur Materialwissenschaften Und Elektronik
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Herrmann K.h.
Institut Fur Angewandte Physik Universitat Tubingen
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Brunner M.
Siemens Ag Forschung Fur Materialwissenschaften Und Elektronik
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Heuberger A.
Institut für Mikrostrukturtechnik der FhG, 1000 Berlin, FRG
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Schnakenberg U.
Institut für Mikrostrukturtechnik der FhG, 1000 Berlin, FRG
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