3.2 プラズマデポジション : 3. プラズマプロセス装置におけるプラズマ・表面相互作用(<特集>プラズマ・表面相互作用) : 多様なPSI現象

スポンサーリンク

概要

• 論文の詳細を見る

• In this report, thin film deposition technologies using plasma-enhanced chemical vapor depositions(PECVD)are reviewed. First, the deposition kinetics of hydrogenated amorphous silicon are described. Secondly, various kinds of PECVD are explained and their use in the application of thin films to display devices such as active matrix liquid crystal displays and field emission displays are described.

• 社団法人プラズマ・核融合学会の論文
• 1999-04-25

著者

• 平尾 孝

  大阪大学大学院工学研究科

関連論文

• 触媒金属微粒子制御による垂直配向カーボンナノチューブ薄膜の作製
• 高真空レーザアブレーション法による炭素粒子を核としたカーボンナノチューブの作製と評価
• プラズマ化学気相成長法による電界電子エミッター用ナノ構造薄膜の作製と評価
• 3.2 プラズマデポジション : 3. プラズマプロセス装置におけるプラズマ・表面相互作用(プラズマ・表面相互作用) : 多様なPSI現象

スポンサーリンク