2.プラズマ生成の基礎 : 2.5ECRプラズマ(<講座>プラズマ生成5)

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概要

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• Conventional ECR plasma sources are described and it is pointed out that large diameter ECR plasmas with high density are required in plasma processing such as CVD and etching. Some attempts to produce large diameter ECR plasmas are introduced.

• 社団法人プラズマ・核融合学会の論文
• 1993-05-25

著者

• 河合 良信

  九州大学大学院総合理工学研究院

• 河合 良信

  九州大学総合理工学研究科

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