5.放電生成プラズマ光源 : 5.2実用化のための課題と将来展望(<小特集>リソグラフィ用EUV(極端紫外)光源研究の現状と将来展望)

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概要

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• Some important issues for the practical application of a discharge-based EUV source for lithography are described. Innovative ideas taking into consideration both plasma physics and technological elements such as pulse power, materials, and heat management are required for the solution of key issues. Engineering approaches are described with the development plan of the EUVA. It is necessary to consider the factors relating to the issue as a whole in research and development in order to produce a clean, high power and high quality photon.

• 2003-03-25

著者

• 佐藤 弘人

  技術研究組合 極端紫外線露光技術システム開発機構研究開発センタ御殿場分室

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