4.レーザー生成プラズマ光源 : 4.2高出力レーザー生成プラズマEUV光源の開発(<小特集>リソグラフィ用EUV(極端紫外)光源研究の現状と将来展望)

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概要

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• This paper reviews the research and development of the high average power, extreme ultraviolet light source based on laser produced plasma by EUVA. The technology is based on a liquid Xe micro jet, high repetition rate short pulse Nd : YAG laser, and various diagnostics for plasma optimization are described.

• 2003-03-25

著者

• 遠藤 彰

  技術研究組合 極端紫外線露光システム技術開発機構 平塚研究開発センタ

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