遠藤 彰 | 技術研究組合 極端紫外線露光システム技術開発機構 平塚研究開発センタ
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概要
関連著者
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遠藤 彰
技術研究組合 極端紫外線露光システム技術開発機構 平塚研究開発センタ
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住谷 明
技術研究組合 極端紫外線露光システム技術開発機構 平塚研究開発センタ
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住谷 明
技術研究組合極端紫外線露光システム技術開発機構(euva)研究部平塚研究室
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スマン ゲオルグ
技術研究組合 極端紫外線露光システム技術開発機構 平塚研究開発センタ
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小森 浩
技術研究組合 極端紫外線露光システム技術開発機構 平塚研究開発センタ
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植野 能史
技術研究組合 極端紫外線露光システム技術開発機構 平塚研究開発センタ
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溝口 計
EUVA
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小森 浩
技術研究組合極端紫外線露光システム技術開発機構 研究部平塚研究室
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溝口 計
Euva平塚研究開発センタ
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佐藤 弘人
Euva
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青木 立
東京都立産業技術高等専門学校ものづくり工学科
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井上 充
キャノン株式会社
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遠藤 彰
EUVA
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小森 浩
EUVA
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青木 立
東京都立工業高等専門学校
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遠藤 彰
EUVA平塚研究開発センタ
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小川 眞佐志
技術研究組合極端紫外線露光システム技術開発機構
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小森 浩
EUVA平塚研究開発センタ
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植野 能史
EUVA平塚研究開発センタ
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スマン ゲオルグ
EUVA平塚研究開発センタ
著作論文
- リソグラフィー用レーザー生成プラズマEUV光源の開発と課題
- 固体錫ターゲットを用いたCO_2レーザープラズマEUV光源のデブリ特性
- EUVAにおけるEUV光源開発計画
- リソグラフィ用レーザー生成プラズマ極端紫外光源
- 極端紫外線(EUV)リソグラフィー光源用CO2レーザー (特集 レーザー応用技術の最新動向--高出力レーザーを中心に)
- 次世代半導体露光システム開発の技術戦略 : 技術研究組合極端紫外線露光システム技術開発機構(精密工学の最前線)
- 4.レーザー生成プラズマ光源 : 4.2高出力レーザー生成プラズマEUV光源の開発(リソグラフィ用EUV(極端紫外)光源研究の現状と将来展望)
- 極端紫外リソグラフィー光源の装置化技術開発
- 02aB22P XeレーザプラズマEUV光源の高速イオン緩和技術の開発(プラズマ応用)