83-376大気圧CVD法による水素含有アモルファスSi膜の簡易作成法 F.B.Ellis, Jr., R.G.Gordon : Simple Method for Preparing Hydrogenated Amorphous Silicon Films by Chemical Vapor Deposition at Atmospheric Pressure, Journal of Applied Physics, Vol.54,No.9,5381-5383,Sept., (1983)

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概要

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• 社団法人映像情報メディア学会の論文
• 1984-02-20

著者

• 下元 泰治

  (株)日立製作所中央研究所

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