微細パターン露光技術の動向
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概要
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LSIなどの微細パターン形成用露出装置および関連技術の現況について解説する.内容は紫外線, X線, および電子線露光を含み, この方面の研究に従事する研究者や研究管理者向けに書いた.微細露光技術の中でも走査形電子ビーム露光装置の研究が最も強力に進められている.それは従来の光を用いた装置に代わって, 微細なパターンを発生し, 高速度で露光することができるからである.
- 社団法人映像情報メディア学会の論文
- 1977-02-01
著者
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