光導波路の応力誘起複屈折解析システムの開発
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概要
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光導波路作製上不可避的に生ずる複屈折を制御したり,こうした複屈折性を積極的に利用した光デバイスの高性能化を図るためには,応力解析が不可欠である.内部応力分布形光ファイバや,シリコン基板上に形成される石英系光導波路を対象とした光導波路解析は従来から行われているが,いずれも三角形1次要素を用いた有限要素法(FEM)解析が行われており,要素内の応力は一定値で近似されている.また,音響光学(AO)効果による屈折率変化を考慮し,光導波路解析まで行って,モード複屈折率を評価した報告も少ない.ここでは,応力解析から光導波路解析までを一貫して行える,より高精度な解析システムについて述べる.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1995-09-05
著者
-
小柴 正則
北海道大学大学院情報科学研究科
-
江口 真史
千歳科学技術大学光システム学科
-
辻 寧英
北海道大学大学院工学研究科
-
小柴 正則
北海道大学
-
辻 寧英
北海道大学大学院情報科学研究科
-
江口 真史
室蘭工業大学工学部電気電子工学科
-
大久保 公博
北海道大学工学部電子情報工学専攻
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