MOCVD 法による赤外中空ファイバの製作 : 金属酸化物薄膜の生成
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概要
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CO_2レーザなどの中赤外高出力レーザ光の伝送媒体として提案された、誘電体内装金属中空ファイバの製作方法として、これまでスパッタリング法、液相法など様々な手法が報告されている。本論文では新たに、簡便な方法により光学特性の良好な膜が得られることが期待される、MOCVD 法を採用し、耐熱性、化学的耐久性に優れた金属酸化物薄膜を中空ファイバ内に生成することを試みた。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1997-08-13
著者
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