修正エッジ法を用いたリソグラフ投影系の波動解析とひずみ補正
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概要
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リソグラフで用いられるマスクと投影系において、像が波長オーダに精細になると回折現象によりひずみが生じる。また、開口数大きくなるにつれ、いわゆる近軸近似、スカラ近似が成立しなくなる可能性も大きい。この問題を解析するために、波長に比ベてはるかに大きな散乱体を扱うことのできる、高周波近似解析手法を用いて電磁界解析を行った。波動の振る舞いを近似する物理光学法 (PO) を用いるが、計算効率を向上させること、さらに回折波と幾何光学波を区別して扱うため、さらに光学系における散乱現象の物理的理解を深めるために、POに修正エッジ法を適用し瞳面と結像面における電磁界分布を評価した。なお、アンテナの指向性合成の手法を参考に、複素共役な波源分布を実現するマスクの使用を提案している。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1997-08-13
著者
-
安藤 真
東京工業大学 電気電子工学専攻
-
安藤 真
東京工業大学
-
加藤 学
東京工業大学資源化学研究所
-
加藤 学
東京工業大学大学院情報理工学研究科計算工学専攻
-
加藤 学
東京工業大学工学部電気・電子工学科
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