高分解能RBSによるZrO_2/Si界面の評価
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概要
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高分解能RBSを用いて、4種類のZrO_2/Siの深さ方向の濃度プロファイルを求めた。その結果、製膜時の酸素流量やアニール等によってZrO_2膜とSi基板の界面層の組成や厚さに明瞭な違いが認められた。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2002-06-14
高分解能RBSを用いて、4種類のZrO_2/Siの深さ方向の濃度プロファイルを求めた。その結果、製膜時の酸素流量やアニール等によってZrO_2膜とSi基板の界面層の組成や厚さに明瞭な違いが認められた。