高速光近接効果補正/検証システムの開発

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概要

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• 素子の設計ルールが、光リソグラフィの解像限界に近くなり、光近接効果 (OPE) が顕著になってきた。ウェハ上での寸法均一性を達成するためには、マスク上で予め変換差を見越した補正を加えておく必要がある。本報告は、トランジスタのゲート長補正を対象とした、高速な光近接効果補正および検証システムの開発に関する。

• 1997-11-21

著者

• 小林 幸子

  東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 山元 和子

  東芝研究開発センター 先端半導体デバイス研究所

• 小林 幸子

  東芝研究開発センター 先端半導体デバイス研究所

• 宇野 太賀

  東芝研究開発センター 先端半導体デバイス研究所

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